DWL2000/ DWL4000

高靈活度與高精度光刻的解決方案

High Resolution Pattern Generators

高靈活度與高精度光刻的解決方案

DWL2000和DWL4000 激光光刻系統(tǒng)是快速及高靈活性的高分辨率圖型發(fā)生器，用于制作掩膜版和可直接于產(chǎn)品上進(jìn)行激光直寫，

寫入面積高達(dá)200x200 mm2,與400x400 mm2 。在二維曝光技術(shù)表現(xiàn)*，*低分辨率為500nm，可選配自動加載系統(tǒng)，

除了高分辨率的二維圖型之外，還提供灰度曝光模式，可在厚光刻膠中創(chuàng)建復(fù)雜的2.5D結(jié)構(gòu)。

產(chǎn)業(yè)應(yīng)用：MEMS、BioMEMS，微光學(xué)、集成電路(ASIC)、微流體、傳感器。

關(guān)于我們 - Stella International

Stella International攜手光刻技術(shù)領(lǐng)航者-海德堡儀器公司，共同為客戶帶來*的綜合應(yīng)用效能，同時(shí)建立緊密的合作伙伴關(guān)系。

為了服務(wù)客戶更廣泛多元的應(yīng)用領(lǐng)域，Stella International于 2016年在蘇州成立海德堡儀器演示中心，以海德堡原廠伙伴技術(shù)支援，提供客戶技術(shù)交流平臺以及各式前段打樣的基礎(chǔ)研究，

這些年來已服務(wù)許多的國內(nèi)大學(xué)，研究所與企業(yè)前期研發(fā)單位。

介紹

德國海德堡 高精密無掩膜激光直寫設(shè)備
HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM

德國海德堡設(shè)備(Heidelberg Instruments)，創(chuàng)始于1984年，在激光直寫設(shè)備的發(fā)展和設(shè)計(jì)上，一直是*的。多年以來，系統(tǒng)設(shè)備持續(xù)地改良、在各種應(yīng)用上客制化。

應(yīng)用范圍包括：微電腦和納米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相關(guān)領(lǐng)域。

銷售橫跨歐洲、美國、亞洲等過50幾個*、700個以上銷售據(jù)點(diǎn)，用于研發(fā)、快速原型制作和工業(yè)生產(chǎn)系統(tǒng)，是企業(yè)研究和發(fā)展的*伙伴。