微分干涉顯微鏡(PDB檢測顯微鏡)DMM-1100C
一、DMM-110C透反射金相顯微鏡主要用途:
DMM-1100C型透反射金相顯微鏡采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與模塊化的功能設計理念,可實現(xiàn)偏光觀察、明場觀察、反射暗場、透射觀察、反射微分干涉觀察功能。設計符合人機工程學要求的理想設計,低手位操作更方便舒適。適用于金相組織及表面形態(tài)的顯微觀察,本儀器適合電子、冶金、化工和儀器儀表行業(yè)用于觀察半透明或不透明的物資,適合對太陽能電池硅片、半導體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析等。
二、DMM-110C透反射金相顯微鏡的主要特點:
1、采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng),提供的光學性能,配無限遠長工作距離物鏡,寬目鏡觀察筒及φ22mm大視野目鏡.
2、低手位操作,降低長時間操作時的疲勞,儀器主體采用全白噴漆,美觀大方,采用內六角螺釘固緊儀器連接部分,無任何裸露在外的螺釘.
3、三目鏡筒,可自由切換正常觀察與偏光、反射、透射、暗場、微分干涉觀察,可進行透光攝影.
4、高像素數字成像系統(tǒng),電腦顯示成像真實清晰,多種攝像機和功能軟件可供選擇.
5、低位粗微動同軸調焦機構,微動格值:2μm,帶鎖緊限位裝置,防止鏡頭碰觸樣品和載物臺自動下滑.
6、微分干涉相襯觀察時圖像清晰,干涉色均勻,具有較強的浮雕感.
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微分干涉顯微鏡(PDB檢測顯微鏡)DMM-1100C
一、DMM-110C透反射金相顯微鏡主要用途:
DMM-1100C型透反射金相顯微鏡采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng)與模塊化的功能設計理念,可實現(xiàn)偏光觀察、明場觀察、反射暗場、透射觀察、反射微分干涉觀察功能。設計符合人機工程學要求的理想設計,低手位操作更方便舒適。適用于金相組織及表面形態(tài)的顯微觀察,本儀器適合電子、冶金、化工和儀器儀表行業(yè)用于觀察半透明或不透明的物資,適合對太陽能電池硅片、半導體晶圓檢測、電路基板、FPD、精密模具的檢測分析等。
二、DMM-110C透反射金相顯微鏡的主要特點:
1、采用優(yōu)良的無限遠光學系統(tǒng),提供的光學性能,配無限遠長工作距離物鏡,寬目鏡觀察筒及φ22mm大視野目鏡.
2、低手位操作,降低長時間操作時的疲勞,儀器主體采用全白噴漆,美觀大方,采用內六角螺釘固緊儀器連接部分,無任何裸露在外的螺釘.
3、三目鏡筒,可自由切換正常觀察與偏光、反射、透射、暗場、微分干涉觀察,可進行透光攝影.
4、高像素數字成像系統(tǒng),電腦顯示成像真實清晰,多種攝像機和功能軟件可供選擇.
5、低位粗微動同軸調焦機構,微動格值:2μm,帶鎖緊限位裝置,防止鏡頭碰觸樣品和載物臺自動下滑.
6、微分干涉相襯觀察時圖像清晰,干涉色均勻,具有較強的浮雕感.