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原裝進(jìn)口EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃燒式廢氣處理器

發(fā)布時(shí)間:2025/03/13 09:36:06 發(fā)布廠商:北崎國(guó)際貿(mào)易(北京)有限公司 >> 進(jìn)入該公司展臺(tái)

原裝進(jìn)口EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃燒式廢氣處理器

原裝進(jìn)口EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃燒式廢氣處理器


原裝進(jìn)口EBARA 荏原 G5-350 A1-A4 燃燒式廢氣處理器


G5 系列

可燃性氣體和溫室氣體 (PFC) 氣體的高效處理、燃燒式廢氣處理裝置

燃燒廢氣處理系統(tǒng)
多種氣體的批處理
PFC 氣體的高效處理
副產(chǎn)品對(duì)策和粉末自動(dòng)卸料功能
運(yùn)行成本低
正常運(yùn)行時(shí)間長(zhǎng)
根據(jù)氣體類型和體積按需運(yùn)行
提高可維護(hù)性
提供 CE 標(biāo)志/SEMI-S2/NRTL

產(chǎn)品介紹

G5 是一種燃燒式廢氣處理系統(tǒng),能夠高效處理制造過程中使用的各種氣體。 可以一次處理多種氣體,并且可以高效處理通常難以處理的 PFC 氣體。 通過我們的副產(chǎn)品對(duì)策和根據(jù)要處理的氣體類型和數(shù)量按需(可變?nèi)剂瞎?yīng))作來降低運(yùn)行成本。 它非常適合用于半導(dǎo)體、液晶面板、太陽(yáng)能電池和 LED 等電子元件的制造、化學(xué)和材料制造商以及各種實(shí)驗(yàn)室。 還提供*流量為 1,200 L/min 的大流量型。

規(guī)范

單位 G5-350 A1~A4/P1~P4 G5-500 A1~A4/P1~P4 G5-600 A1~A4/P1~P4 G5-1200 A1~A4/P1~P4
加工方法 燃燒 + 濕式 燃燒 + 濕式 燃燒 + 濕式 燃燒 + 濕式
*進(jìn)氣量 升/分鐘 350 500 600 1200
燃料 城市燃?xì)?丙烷氣選擇 城市燃?xì)?丙烷氣選擇 城市燃?xì)?丙烷氣選擇 城市燃?xì)?丙烷氣選擇
大小 寬 x 深 x 高 mm 1,200 x 650 x 1,900 1,200 x 650 x 1,900 1,200 x 1,100 x 2,000 1,200 x 1,100 x 2,200
可處理氣體示例 工藝(庫(kù))氣體
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕
刻氣體
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
工藝(庫(kù))氣體
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕
刻氣體
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
工藝(庫(kù))氣體
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕
刻氣體
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
工藝(庫(kù))氣體
SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等
一般
清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般蝕
刻氣體
HBr、Cl2、SiCl4、 BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。
PFC
CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。
標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備 除粉 vernas 刮刀 除粉 vernas 刮刀 除粉 vernas 刮刀 除粉 vernas 刮刀
選擇 市政水和廢水消耗減少裝置 市政水和廢水消耗減少裝置 市政水和廢水消耗減少裝置 市政水和廢水消耗減少裝置


EBARA 荏原
G5-350 A1~A4
燃燒式廢氣處理器
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